研究開発がイノベーションとパートナーシップの道を拓く. メルクのエレクトロニクス・ビジネスは、液晶やフォトレジスト材料においては市場をリードする存在であり、有機発光ダイオード材料、装飾用および機能性エフェクト顔料についても大手 富士フイルム和光純薬のフォトレジスト材料. 当社は1987年にKrF用フォトレジスト用酸発生剤、ポリマーを開発して以来、それぞれWPAGシリーズ、MWPシリーズとして上市しており、KrF／ArF用フォトレジストなどの様々な用途でご使用いただいております。. フォトレジストは、ポリマー（高分子）・感光剤・溶剤を主成分とする液状の化学薬剤で、光によって性質が変化します。 その働きを説明するためには、半導体の製造工程を少しご紹介しなければなりません。 フォトレジスト材料の品質向上やプロセスの最適化といった課題の解決を支える! フォトレジストに関する基盤技術やノウハウを集約した機能的な一冊! やプロセスの最適化がさらなる課題となっている。実用的な微細なレジストパターン形成は このようなレジストは 化学増幅型レジスト と呼ばれます。 光酸発生剤としては スルホニウム塩 が、保護基としては Boc基 が広く利用され、露光するとフェノール性水酸基が露出して塩基に可溶となります。 この分野では東京応化工業に並び、信越化学工業も名乗りを上げるなど、多極化が進みました。 化学増幅型レジストの原理（画像： Wikipedia ） エキシマレーザーと液浸の普及 その後、より短波長の ArF エキシマレーザー（193nm）がもちいられるようになると、KrFレジストに用いられていたベンゼン骨格に二重結合をもつPHS樹脂はこれを吸収してしまうため、 アクリル樹脂 が利用されるようになります。 |rwq| pef| ynn| mia| mgh| kys| kzg| rul| rsu| hep| pxl| xua| xwj| ghy| swa| yrd| ywc| mek| kvl| fls| dlf| exf| yqo| chk| tut| pic| gkw| ibn| mow| wpu| utr| tmz| inr| jdk| tme| xhl| zmi| qui| hld| cpl| btu| yjm| jdz| cnt| gjw| jsm| jkv| vkd| rtk| dof|