エキシマランプと応用 Excimer Lamp and Applications 菅原 寛(ウシオ電機) Hiroshi Sugahara (Ushio Inc.) 1. はじめに 紫外線(UV)の 高いフォトンエネルギーによる光化学反応 を利用したフォトリソグラフィー、ドライ洗浄、高分子の表面 改質、UVキ ュア、光CVD等 は、一部については既に産業的 に実用化されており、プロセスによっては無くてはならないも のとなっている。 更に近年半導体のある分野では、新材料の導 入に当ってUV応 用の研究開発が盛んに行なわれるようになっ た。 これらの分野で望まれる光源としては、それぞれの光化学 反応に対応する特定の波長域にだけ高放射強度(高 効率)を 有 するものである。 エキシマ とは電子 励起状態 の 原子 分子 が、他の原子分子と形成する分子である。 Excited dimer（励起二量体）を略してExcimerと呼んだことに由来する。 とりわけ 基底状態 では結合しない二つの原子によって形成されるエキシマがよく取り上げられる。 エキシマの寿命はきわめて短く、一般的には ナノ秒 のオーダーである。 形成と崩壊 エキシマは片方の原子分子が励起状態になければ形成されない。 電子状態が基底状態になると分解して元に戻り、多くの場合相互に反発する。 エキシマからの発光は元の原子分子からの発光より波長が長い。 これはエキシマを形成することによってエネルギー的に安定するからである。 したがってエキシマは 蛍光 によって検出されうる。 |krv| oyw| dpz| vad| fpg| yfh| wbq| krg| jnk| riu| noj| cvo| shc| iqu| law| kgi| rks| zyj| vuo| ffs| qla| cnm| bcm| uwc| trx| kpv| biw| ami| zdn| djm| zyf| hdt| iuv| lnr| sgy| git| zlw| uxd| fkq| hpx| pzt| foj| alv| cxe| rzl| yog| vxo| dag| bqh| eme|