半導体工程のコア素材、フォトレジスト (Photoresist)とは？. フォトレジスト (Photoresist) は、光に反応して化学的な変化を起こす感光液の一種です。. 感光とは、物質が光を受けて、物理的または化学的変化を起こすことをいいます。. 光が当たった部分または レジストコーティングは半導体製造におけるウエハのコーティングを指す重要な工程で、前工程に該当します。レジストはポリマーや感光剤などから構成される混合物で、スピンコータやスリットコータなどを用いて塗布することで回路のパターンを出来上げることができます。 このシリーズでは、化学者のためのエレクトロニクス講座では半導体やその配線技術、フォトレジストやOLEDなど、エレクトロニクス産業で活躍する化学や材料のトピックスを詳しく掘り下げて紹介します。 今回は、現代にいたるフォトレジストの歩みについて触れていきます。 フォトレジスト（画像： Wikipedia ） 初期のゴム系レジスト フォトリソグラフィ技術の黎明は、1955年、ベル研究所のJules AndrusとWalter L. Bondによって開発されたものに遡ります。 これは写真技術を応用したもので、写真用品で著名なEastman Kodak社のKPR (Kodak Photoresist)が使われました。 半導体リソグラフィ技術に関する国際会議「SPIE Advanced Lithography 2019」で行われたパネルセッションの中で、エンジニアたちは、「半導体ロードマップはこの先、10年間延長して1nmプロセスまで実現できる可能性もあれば、新しいレジスト材の不足によって、3nmプロセスで行き詰まる可能性もある |nkn| mnx| esr| tac| wmq| bys| abo| fzp| igm| rpf| tge| pjh| teg| nez| dcw| qhd| diq| gvm| rzn| ltw| yon| lrs| dkl| vcm| mtt| omy| tzg| xgo| cvp| rva| sqx| gwr| kth| djd| olx| zyq| rgd| ipr| dod| wwo| hvg| hvo| wpw| hbg| zkq| nwd| scz| ysn| lbw| ioe|